高純硅化學(xué)式？是四氯化硅，化學(xué)式是SiCl4．故填：SiCl4．（2）設(shè)：需要?dú)錃獾馁|(zhì)量為x，SiCl4+2H2 高溫 . Si+4HCl 4 28 x 56g4x=2856g，x=8g，那么，高純硅化學(xué)式？一起來了解一下吧。

制取純硅的化學(xué)方程式

制備高純硅需要粗硅、HCl和氫氣，分別由石英、天燃?xì)夂褪雏}制得

化學(xué)式如下：

食鹽制備HCl：NaCl+H2SO4→NaHSO4+HCl

天燃?xì)庵苽銱2：CH4+CO2→2H2+2CO

石英制備粗硅：SiO2+2C→Si+2CO

Si+3HCl=SiHCl3+H2

SiHCl3+H2=Si+3HCl 得到高純硅

碳酸鋰化學(xué)式

硅的化學(xué)式就是

Si

化學(xué)中說的物質(zhì)如果沒有強(qiáng)調(diào)的話

一般指的就是理論上的純凈物了

像石灰石指的就是純凈的碳酸鈣

但像大理石就不是純凈物了

硫磺燃燒的化學(xué)方程式

Si，純度是99.999999999%，我發(fā)誓純度一定對(duì)。多用來做電腦芯片，是從沙子中提取的，是世界上已知最純的物質(zhì)。

單晶硅的制備方程式

高純硅的制備一般首先由

（SiO2）制得工業(yè)硅（粗硅），再制成高純的

，最后拉制成

硅單晶。

工業(yè)上是用

（SiO2）和

以一定比例混合，在

中加熱至1600~1800℃而制得純度為95%~99%的粗硅，其反應(yīng)如下：SiO2+2C=Si+2CO

粗硅中一般含有鐵、鋁、碳、硼、磷、銅等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)多以硅化構(gòu)成

的形式存在，為了進(jìn)一步提高工業(yè)粗硅的純度，可采用酸浸洗法，使雜質(zhì)大部分溶解（有少數(shù)的

不溶）。其生產(chǎn)工藝過程是：將粗

碎后，依次用鹽酸、

、（HF+H2SO4）混合酸處理，最后用

洗至中性，烘干后可得含量為99.9%的工業(yè)粗硅。

高純

的制備方法很多，據(jù)布完全統(tǒng)計(jì)有十幾種，但所有的方法都是從工業(yè)硅（或稱

，因?yàn)楹F較多）開始，首先制取既易提純又易分解（即還原）的含硅的中間化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等，再使這些中間化合物提純、分解或還原成高純度的

目前我國制備高純硅多晶硅主要采用

氫還原法、

熱解法和四

氫還原法。一般說來，由于

還原法具有一定優(yōu)點(diǎn)，目前比較廣泛的被應(yīng)用。此外，由于SiH4具有易提純的特點(diǎn)，因此

熱分解法是制備高純硅的很有發(fā)展?jié)摿Φ姆椒āＯ旅嫖覀兙头謩e介紹上述三種方法制備高純硅的化學(xué)原理。

1.

還原法

（1） 三氯氫硅的合成

第一步：由

制取粗硅 硅石（SiO2）和適量的

混合，并在

內(nèi)加熱至1600~1800℃ 可制得純度為95%~99%的粗硅。

制高純硅反應(yīng)方程式

反應(yīng)熱怎么算來的？ 反應(yīng)方程式：SiCl4(g)+2H2(g)===（高溫）Si(s)+4HCl(g)，它的反應(yīng)熱是？已知Si－Cl、H－H、H－Cl、Si－Si的鍵能分別為360、436、431、176KJ/mol，反應(yīng)熱為什么是236KJ/mol，而不是588KJ/mol呢？解答！ 滿意答案゛一笑奈何灬9級(jí)2011-04-07因?yàn)橐粋€(gè)硅里有兩個(gè)硅硅鍵，這樣就能算對(duì)了 補(bǔ)充： 360*4+436*2-431*4-176*2=236 追問： 一個(gè)Si怎么還會(huì)有兩個(gè)硅硅鍵呢？能具體點(diǎn)么？ 回答： 硅有四個(gè)價(jià)層電子，那么他就可以成四個(gè)鍵，單晶硅是一個(gè)硅連著四個(gè)鍵，但是一個(gè)硅硅鍵是兩個(gè)硅共同合作的作用，一個(gè)硅就貢獻(xiàn)半個(gè)鍵，四個(gè)半鍵就是兩個(gè)硅硅鍵，手機(jī)打得不全，希望對(duì)你有幫助

以上就是高純硅化學(xué)式的全部內(nèi)容，已知Si－Cl、H－H、H－Cl、Si－Si的鍵能分別為360、436、431、176KJ/mol，反應(yīng)熱為什么是236KJ/mol，而不是588KJ/mol呢？解答！ 滿意答案゛一笑奈何灬9級(jí)2011-04-07因?yàn)橐粋€(gè)硅里有兩個(gè)硅硅鍵。